El gigante coreano Samsung, anunció que ya ha comenzado la producción de su proceso de 7nm Low Power Plus, o 7LPP, que es el primero de la industria en utilizar la litografía ultravioleta extrema.
Samsung afirma haber completado todo el desarrollo de tecnología de proceso, comenzado la producción de obleas 7LPP, basado en EUV, en la fábrica de Hwaseong en Corea. Señaló que el proceso puede ser utilizado por sus clientes para construir chips de próxima generación 5G, inteligencia artificial, centro de datos, IoT, automotriz y redes.
A diferencia del resto de la industria, que por ahora esta atascada con las tecnologías de inmersión con fluoruro de argón (ArF) convencionales, las cuales utilizan longitudes de onda de 193 nm y requieren conjuntos de máscaras de patrones múltiples, el proceso 7LPP basado en EUV de Samsung utiliza una longitud de onda de 13.5 nm para exponer la silicona. Intel puede ser una de las últimas compañías en adoptar la litografía EUV en sus procesos, ya que se estima para después de 2021.
Samsung ha estado investigando la litografía EUV desde principios de los 2000. El hecho de que haya tardado casi dos décadas en ser práctico, es el motivo por el que muchos se mostraron escépticos de que alguna vez se convertiría en realidad.
Más allá de la menor complejidad y los mejores rendimientos, Samsung también promete que su proceso EUV de 7nm ofrecerá un aumento del 40% en la eficiencia por área, con un rendimiento 20% más alto, o un consumo de energía hasta un 50% más bajo en comparación con su proceso FinFET de 10nm. Esto parece una mejora significativa en una era en la que la Ley de Moore ya se considera desfasada.
